L2R2真空装置

Load-Lock Roll-Roll真空装置

 

 

弊社独自の機構により、従来の真空R-Rプロセスの課題を解決しました。

  • 巻出/巻取ユニットを「カセット」としてチャンバ内に装填。
  • ローディング室とプロセス室(および案ローディング室)の各チャンバを大型ゲートバルブで連結
  • 各チャンバを独立して制御することにより、プロセスチャンバで基材を処理している間に次の基材のローディングと乾燥および処理済基材の案アンローディングが可能。
  • 上記機構により装置の稼働率が上がり、設備費や人件費を削減できる。
  • プロセスチャンバは常に大気から分離されており、清浄な真空を維持できる。
  • プラズマ源には、マグネトロンタイプの他にICPタイプも選べる。
  • オプションでローディングチャンバへのQーMassおよびプロセスチャンバへのプラズマ分光器を設置可能。
  • 基材幅は最大300mm、搬送速度は1m/min~50m/min
  • その他、個別仕様への対応可能。
  • 弊社現有設備の現状販売も検討します。

弊社保有2チャンバーL2R2真空装置